SEBI® RT1000 是一款具备实时处理能力的高分辨率波前传感器，专为严苛的光学计量与半导体检测任务设计，可提供高精度测量与高密度采样能力。
它继承了 Wooptix 核心的自适应光学波前相位技术，能够快速捕捉并分析光学系统的波前畸变，广泛应用于半导体晶圆检测、高端光学系统（如内窥镜、精密镜头）的像差分析与质量控制。
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核心优势
· 超高清高分辨率采样
· 更快的实时处理与采集
· 测量精度与重复性
· 宽动态范围与波长适配
· 高兼容性与易用性
· 多场景适配性
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波前与光学性能参数
1. 波前相位分布、波前畸变（低阶 / 高阶像差，含球差、彗差、像散、场曲、畸变等泽尼克模式分解）
2. 光程差及光程差分布图，小可检测光程差＜1nm
3. 光学元件透射 / 反射率、光强分布与均匀性
4. 透镜面形误差、边缘质量、均匀性及粗糙度（可检测 2.5nm-20nm 级表面粗糙度）
5. 光学系统调制传递函数（MTF）辅助分析、成像分辨率至边缘一致性
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材料与样品形貌参数
1. 样品表面纳米形貌、三维轮廓与拓扑图
2. 表面粗糙度、局部应力分布与形变
3. 透明 / 反射样品的厚度、总厚度变化、全局平面度
4. 微结构尺寸与精度（如微透镜阵列、光刻图形的线宽、边缘粗糙度）
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半导体晶圆专属参数
1. 硅晶圆 / 玻璃晶圆的全局翘曲、弯曲度、局部高翘曲区域检测
2. 图形化晶圆 / 键合晶圆的结构畸变、层间错位、overlay 对准误差
3. 晶圆干法刻蚀 / 湿法刻蚀后的表面形貌与均匀性
4. 半导体器件的纳米级表面缺陷、颗粒污染检测
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动态过程与生物样品参数
1. 动态样品的实时相位变化（如激光烧蚀、纳米压印、涂层润湿过程）
2. 生物细胞 / 组织的无标记定量相位成像、细胞干质量 / 体积 / 动态运动轨迹
3. 微流控芯片内流体运动、微颗粒的粒径与分布测量
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光学元件表征专属参数
1. 人工晶状体（IOL）的环缺陷、形变、均匀性及表面粗糙度；
2. 抛光金属件（如钛合金假体）的内表面粗糙度、曲面形貌；
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参数表格
性能指标 标定规格（SEBI RT1000 基础升级） 波长覆盖范围 375 - 650 nm（可见光全波段，无额外滤光片限制） 光瞳尺寸 15×15 mm²（有效检测靶面） 空间分辨率 ≤12.5 μm（可升级） 相位 / 光强采样分辨率 1000×1000 像素（同步采样，升级后支持更高像素拓展） 绝对波前精度 ＜λ/30 RMS（可升级） 波前灵敏度 λ/50 RMS（可升级） 波前动态范围 ＞300 μm可升级） 实时采集 / 处理速率 ≥30 fps（可升级） 小可检测光程差（OPD） ＜1 nm（可升级） F-Stop 1.9 mm（ETL 专属参数，适配焦距灵活调节）
